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科技部发布新材料技术超高纯铝靶材项目申请

时间:2021-10-05 18:13 点击次数:
  本文摘要:据科技部消息:物理气相沉积(PVD)是半导体芯片和TFT-LCD生产过程中最关键的工艺之一,PVD用喷发物金属靶材是半导体芯片生产及TFT-LCD制取加工过程中最重要的原材料之一,喷发物金属靶材中用量仅次于的是超高显铝和超高洁净铝合金靶材。由此可见,研发具备自律知识产权的大尺寸超高显铝靶材的生产关键技术,研发出有符合半导体行业及TFT-LCD产业市场需求的超高显铝靶材产品,对于我国涉及产业的发展具备最重要意义。

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据科技部消息:物理气相沉积(PVD)是半导体芯片和TFT-LCD生产过程中最关键的工艺之一,PVD用喷发物金属靶材是半导体芯片生产及TFT-LCD制取加工过程中最重要的原材料之一,喷发物金属靶材中用量仅次于的是超高显铝和超高洁净铝合金靶材。由此可见,研发具备自律知识产权的大尺寸超高显铝靶材的生产关键技术,研发出有符合半导体行业及TFT-LCD产业市场需求的超高显铝靶材产品,对于我国涉及产业的发展具备最重要意义。

为公正、公平、公开发表地自由选择项目分担单位,充分调动涉及企业、科研院所及高等院校的积极性,构建全国在铝的提炼制备、大尺寸铝板应力加工及喷发物金属靶材专业制取等领域的优势研发力量积极开展本项目的工作,科技部公布了《国家高技术研究发展计划(863计划)新材料技术领域“大尺寸超高显铝靶材的生产技术”重点项目申请人指南》。


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